Durch das etablierte Haftmodell der dicken Beschichtung und die Analyse mittels Elektronenmikrosonde (EPMA) und Glimmentladungsspektrometer (GDS) wurden Morphologie und Zusammensetzung der isolierenden Schicht auf amorphem Siliziumstahl vor und nach der Ablösung analysiert und untersucht. Die Ergebnisse zeigen, dass die Beschichtung und das Substrat physikalisch haften; die Hauptform der Ablösung ist die Ablösung an der Grenzfläche zwischen Beschichtung und Substrat, begleitet von Zwischenschichtablösungen innerhalb der Beschichtung selbst; durch Biegen verursachte Risse in der Beschichtung könnten eine wichtige Ursache für die Ablösung sein.

amorpher Siliziumstahl;isolierende Beschichtung;Ablösungsmechanismus