Der Prozess der Mikrostrukturentwicklung beim Hochtemperaturglühen (650～1050℃) von körnig orientiertem Niedrigtemperaturbelegtem 3,0%-Si-Stahl (0,04％C, 3,16％Si, 0,50％Cu) mit Cu₂S als Hauptinhibitor wurde unter Verwendung der Orientierungsverteilungsfunktion und der metallografischen Analyse untersucht. Die Ergebnisse zeigen, dass die erste Rekristallisationstemperatur dieses orientierten Siliziumstahls bei 650～700℃ liegt, die zweite Rekristallisationstemperatur bei 1000～1050℃. Nach der ersten Rekristallisation nimmt die Haupttexturintensität in der Reihenfolge {111}〈110〉, {112}〈110〉, {111}〈112〉 ab. Die Korngröße und Texturintensität der erste Rekristallisationsstruktur ändern sich zwischen 700～900℃ kaum, bei 900～1000℃ beschleunigt sich das Kornwachstum, die Komponenten {111}〈110〉, {112}〈110〉 verstärken sich, während die Intensität der Komponente {111}〈112〉 im Wesentlichen konstant bleibt.

Niedrigtemperaturbelegheizung,&Körnerorientierung, Siliziumstahl; Glühen, Struktur