Einfluss des ersten Rekristallisationsweichglühens auf die Mikrostruktur und Textur von Cu-haltigem Hi-B Siliziumstahl mit simuliertem CSP-Prozess

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摘要

Im Labor wurde ein simulierter CSP-Prozess angewendet, um dünne Bleche aus Hi-B hochmagnetisch orientiertem Siliziumstahl (/%:0,07C,3,02Si,0,13Mn,0,020P,0,006S,0,21Cu,0,025Cr,0,016A1,0,004Sn) herzustellen. Dieser Stahl wurde in einem 25-kg-Vakuuminduktionsofen geschmolzen, zu einem Schmelzling von 41 mm × 120 mm gegossen – warmgewalzt zu 2 mm Blech – bei 1120 ℃ normalisiert – kaltgewalzt zu 0,27 mm dünnem Blech. Es wurde der Einfluss des Weichglühens bei 830~870 ℃ für 3~7 Minuten auf die Rekristallisationsstruktur und Textur untersucht. Die Ergebnisse zeigten, dass das geeignete Weichglühverfahren für 0,27 mm Cu-haltigen Hi-B hochmagnetisch orientierten Siliziumstahl bei 830 ℃ für 5 Minuten liegt, die durchschnittliche Korngröße beträgt 15,6 μm, der Gehalt an ungünstiger Textur {111}〈110〉 und {001}〈110〉 ist gering, die günstige Texturverteilung {111}〈112〉 ist angemessen und fördert die Bildung einer guten Gauß-Struktur beim sekundären Rekristallisationsglühen.

关键词

Cu-haltiger Hi-B hochmagnetisch orientierter Siliziumstahl; simuliertes CSP-Verfahren; erstes Rekristallisationsweichglühen; Mikrostruktur; Textur

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