В лаборатории была проведена опытная отработка процесса моделирования CSP для производства тонколистового ориентированного высокомагнитного силиконового стали Hi-B (/%:0.07C,3.02Si,0.13Mn,0.020P,0.006S,0.21Cu,0.025Cr,0.016A1,0.004Sn). Эта сталь была переплавлена в вакуумной индукционной печи весом 25 кг, отлита в слиток размером 41 мм × 120 мм — горячекатаный до листа толщиной 2 мм — нормализована при 1120℃ — холоднокатан до тонкого листа толщиной 0,27 мм. Изучалось влияние отжига при 830~870℃ в течение 3~7 мин на структуру рекристаллизации и текстуру. Результаты показали, что подходящий отжиг для 0,27 мм Hi-B ориентированного силиконового стали с медью составляет 830℃ 5 минут, средний размер зерна — 15,6 мкм, содержание неблагоприятной текстуры {111}〈110〉 и {001}〈110〉 низкое, распределение благоприятной текстуры {111}〈112〉 разумное, что способствует формированию хорошей гауссовской структуры во время вторичного рекристаллизационного отжига.

Cu-содержащая Hi-B высокомагнитная ориентированная силиконовая сталь; процесс моделирования CSP; первичный рекристаллизационный отжиг; структура; текстура